Journalartikel - Wissenschaftlicher Artikel | 1998 | Peer reviewed

Novel approach to atomic force lithography

Autor*innen

Hu, S. ; Altmeyer, Stefan ; Hamidi, Abdul Aziz ; Spangenberg, Bernd ; Kurz, Heinrich

Zeitschrift

Journal of vacuum science and technology

DOI

10.1116/1.590117

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Sprache

englisch

Darstellungsform

Text

Band

Ausgabe

Seitenbereich

1983 - 1986

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Hu, S., Altmeyer, S., Hamidi, A. A., Spangenberg, B., & Kurz, H. (1998). Novel approach to atomic force lithography. Journal of Vacuum Science and Technology, 16(4), 1983–1986. doi:10.1116/1.590117

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Hu, S., Altmeyer, S., Hamidi, A.A., Spangenberg, B. and Kurz, H., 1998. Novel approach to atomic force lithography. Journal of vacuum science and technology, 16(4), pp.1983–1986.

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Hu, S. u. a. 1998. Novel approach to atomic force lithography. Journal of vacuum science and technology 16, 4, 1983–1986.

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Hu, S., Altmeyer, S., Hamidi, A.A., Spangenberg, B. and Kurz, H., 1998. Novel approach to atomic force lithography. Journal of vacuum science and technology, 16(4), pp.1983–1986.

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Hu, S. u. a. 1998. Novel approach to atomic force lithography. Journal of vacuum science and technology 16, 4, 1983–1986.

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